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220氰化鍍鋅 Zintec 220 Zinc Plating
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220氰化鍍鋅 Zintec 220 Zinc Plating

220氰化鍍鋅光亮劑適合于低、中、高氰化鍍鋅工藝。鍍層平滑、光亮、均勻,是適用于掛鍍及滾鍍鋅的經濟產品。?鍍液配制:??低氰中氰高氰氰化鋅15g/L35g/L60g/L氰化鈉10g/L25g/L60g/L氫氧化鈉75g/L75g/L75g/L220鋅光劑2ml/L2ml/L2ml/L221凈化劑1ml/L1ml/L1ml/L?先用2/3工作量的水溶解所需量的氰化鈉,然后再加入氫氧化鈉,另用容器用水把所需量的氰化鋅溶解成糊狀。將糊狀氰化鋅于攪拌下慢慢加入氰化鈉與氫氧化鈉溶液,加水至工作水位并降溫至30℃,撒0.1-0.2g/L的鋅粉于溶液表面并攪拌一小時,沉降后過濾至電鍍槽,添加220鋅光劑,鍍液配制完成。如使用氧化鋅,須先加221凈化劑混合后才加220鋅光劑:??低氰中氰高氰氧化鋅10g/L20g/L40g/L氰化鈉25g/L60g/L110g/L氫氧化鈉65g/L50g/L35g/L221凈化劑1ml/L1ml/L1ml/L220鋅光劑2ml/L2ml/L2ml/L?操作條件:??低氰中氰高氰鋅8g/L20g/L35g/L總氰20g/L50g/L100g/L氫氧化鈉75g/L75g/L75g/L氰化鈉:鋅2.0-3.0:1陽極>99.95%純鋅溫度24-35℃陰極電流密度2.0-8.0A/dm2掛鍍?0.5-2.0A/dm2滾鍍電壓2-5V???掛鍍鍍槽鋼鐵或內襯PVC加熱或冷卻鋼鐵材料維護:?220鋅光劑80-150ml/KAH掛鍍220鋅光劑50-100ml/KAH滾鍍?凈化劑在停工期穩定及保持鍍液的活性。消耗量視乎溫度、光亮度要求,雜質含量及帶出損耗。?沉積速度:?掛鍍3A/dm21μm/1.5min滾鍍1A/dm21μm/5min?雜質污染:220氰化鍍鋅工藝對金屬雜質容忍度高,如鈣、鉛、銅等雜質。如果雜質含量過高,可使用221或222凈化劑處理或添加0.1g/L鋅粉,再用活性碳過濾便可。使用活性碳過濾后應補加0.5ml/L的220鋅光劑。????????________V1.1TC110331本說明書為中文譯本,只供參考,應以英文版為準。本說明書上所有建議,是根據信賴的實驗室資料編成,由于不同的生產設備及工藝條件,可能會造成效果的差異,本公司并不承擔任何責任。本說明書的所有內容不能作為侵犯版權的證據。
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產品編號
50220
數量
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庫存:
1
產品描述
參數

 

Zintec 220 Zinc Plating

 

220氰化鍍鋅

工藝編號:

50220

---------------------------------------------------------------------------

     

簡介:

220氰化鍍鋅光亮劑適合于低、中、高氰化鍍鋅工藝。鍍層平滑、光亮、均勻,是適用于掛鍍及滾鍍鋅的經濟產品。

 

鍍液配制:

 

 

低氰

中氰

高氰

氰化鋅

15g/L

35g/L

60g/L

氰化鈉

10g/L

25g/L

60g/L

氫氧化鈉

75g/L

75g/L

75g/L

220鋅光劑

2ml/L

2ml/L

2ml/L

221凈化劑

1ml/L

1ml/L

1ml/L

 

先用2/3工作量的水溶解所需量的氰化鈉,然后再加入氫氧化鈉,另用容器用水把所需量的氰化鋅溶解成糊狀。將糊狀氰化鋅于攪拌下慢慢加入氰化鈉與氫氧化鈉溶液,加水至工作水位并降溫至30,撒0.1-0.2g/L的鋅粉于溶液表面并攪拌一小時,沉降后過濾至電鍍槽,添加220鋅光劑,鍍液配制完成。

如使用氧化鋅,須先加221凈化劑混合后才加220鋅光劑:

 

 

低氰

中氰

高氰

氧化鋅

10g/L

20g/L

40g/L

氰化鈉

25g/L

60g/L

110g/L

氫氧化鈉

65g/L

50g/L

35g/L

221凈化劑

1ml/L

1ml/L

1ml/L

220鋅光劑

2ml/L

2ml/L

2ml/L

 

操作條件:

 

 

低氰

中氰

高氰

8g/L

20g/L

35g/L

總氰

20g/L

50g/L

100g/L

氫氧化鈉

75g/L

75g/L

75g/L

氰化鈉:鋅

2.0-3.01

陽極

99.95%純鋅

溫度

24-35

陰極電流密度

2.0-8.0A/dm2掛鍍

 

0.5-2.0A/dm2滾鍍

電壓

2-5V    掛鍍

鍍槽

鋼鐵或內襯PVC

加熱或冷卻

鋼鐵材料

維護:

 

220鋅光劑

80-150ml/KAH掛鍍

220鋅光劑

50-100ml/KAH滾鍍

 

凈化劑在停工期穩定及保持鍍液的活性。消耗量視乎溫度、光亮度要求,雜質含量及帶出損耗。

 

沉積速度:

 

掛鍍

3A/dm2

1μm/1.5min

滾鍍

1A/dm2

1μm/5min

 

雜質污染:

220氰化鍍鋅工藝對金屬雜質容忍度高,如鈣、鉛、銅等雜質。如果雜質含量過高,可使用221222凈化劑處理或添加0.1g/L鋅粉,再用活性碳過濾便可。

使用活性碳過濾后應補加0.5ml/L220鋅光劑。        

________

V1.1TC110331

本說明書為中文譯本,只供參考,應以英文版為準。本說明書上所有建議,是根據信賴的實驗室資料編成,由于不同的生產設備及工藝條件,可能會造成效果的差異,本公司并不承擔任何責任。本說明書的所有內容不能作為侵犯版權的證據。

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